關(guān)于精密位移平臺測量方法步驟的研究

添加時間：2020-6-9 8:29:36 作者：浙江金科機械傳動有限公司

精密位移平臺測量已經(jīng)廣泛應(yīng)用于精密測量領(lǐng)域中, 實現(xiàn)微位移測量關(guān)鍵的環(huán)節(jié)在于精確的定位和精細的運動。文章設(shè)計了一種基于應(yīng)變方式進行二維微位移( 納米級) 測量的系統(tǒng), 詳細闡述了該系統(tǒng)主要組成部分: 微位移檢測傳感器、處理電路及相關(guān)系統(tǒng)軟件。實驗結(jié)果表明該系統(tǒng)可以滿足二維微( 納米級) 測量的要求。
    精密位移平臺已經(jīng)在精密測量、超精密加工、微型裝配、納米技術(shù)、基因工程的顯微操作系統(tǒng)等方面顯示了越來越重要的作用。而微位移測量實現(xiàn)關(guān)鍵的環(huán)節(jié)在于精確的定位和精細的運動, 因此設(shè)計定位精確, 高精度的微位移測量平臺已經(jīng)成為這些測量領(lǐng)域一個重要而艱巨的任務(wù)。
    目前精密位移平臺的方法主要有: 采用杠桿與柔性鉸鏈組合的二維微位移測量平臺, 該平臺通過激光干涉儀檢測兩組杠桿平行四邊形機構(gòu)的位移來實現(xiàn)二維微位移測量
[ 1] ; 二維微位移測量柔性工作臺, 其柔性導(dǎo)向系統(tǒng)通過集成行進放大器推動多撓曲平行四邊形實現(xiàn)定位, 其上配備的電容型位置反饋傳感器在閉環(huán)狀態(tài)下為定位提供了納米級的分辨力
[ 2] ; 以正交衍射光柵為計量標準器的二維微位移工作臺, 通過測量光柵運動位移與所產(chǎn)生干涉條紋的相移之間的關(guān)系實現(xiàn)對微位移的測量
[ 3] 等。國外在微位移測量方面的研究技術(shù)趨于成熟, 已經(jīng)研制出高精度的微位移測量平臺。但國內(nèi)目前的二維微位移測量平臺在實際應(yīng)用中, 微位移機構(gòu)的穩(wěn)定性和定位的精確性上都有很大的局限性, 難以滿足多種測量領(lǐng)域的需要。本文提出的采用應(yīng)變式傳感器等構(gòu)成的二維微位移測量平臺, 可在50 um 的全量程范圍內(nèi)進行精密的二維微位移測量, 分辨率可達到1/ 5 000 fs —— 1/ 10 000 fs。具有體積小、集成度高、精確度高的優(yōu)點, 有利于提高整個微位移測量平臺的精度、實用性和經(jīng)濟性。
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